Dr. Althea Essential Skin Conditioner Silk Mask очищающая шелковая маска для лица

Dr.Althea Essential Skin Conditioner Silk Mask состоящая из успокаивающего и очищающего экстракта гамамелиса и противовоспалительного зеленого чая, прекрасно успокаивает чувствительную и склонную к акне кожу.

Добавление экстракта корня женьшеня помогает восстановить и улучшить пигментацию, делая кожу более гладкой и ровной.

Сама маска изготовлена ​​из шелка, что делает ее более чем приятной в использовании.

Гипоаллергенная ткань маски обеспечивает эффективную доставку активных ингредиентов и хорошо прилегает к контурам лица для достижения максимального результата.

Основные активные вещества:

Экстракт гамамелиса – помогает в борьбе с куперозом, нормализует гидролипидный баланс кожи, оказывает противовоспалительное, успокаивающее и заживляющее действие.
Экстракт зеленого чая – прекрасно снимает раздражение, обладает антибактериальными свойствами, делает кожу упругой и эластичной, разглаживает морщины, улучшает цвет лица.
Гиалуроновая кислота – обеспечивает длительное и интенсивное увлажнение кожи, защищает эпидермис от обезвоживания и преждевременного образования морщин, стимулирует регенерацию клеток, заживляет раны и трещины.
Экстракт камеди босвеллии – улучшает тон лица, предотвращает сухость, восстанавливает эластичность, защищает кожу от стресса, успокаивает, способствует уменьшению морщин, оказывает противовоспалительное действие, помогает при лечении себореи, оказывает укрепляющее действие на кожу.
Экстракт корня женьшеня – стимулирует выработку коллагена и кровообращение, обновляет кожу, регенерирует, оказывает бактерицидное действие, оказывает защитное действие от ультрафиолетовых лучей, способствует смягчению и тонизированию кожи, успокаивает, способствует лучшему усвоению питательных веществ кожей, помогает для замедления старения кожи.
Пантенол – стимулирует регенерацию кожи, уменьшает покраснения и раздражения, обладает ранозаживляющими свойствами.

Подходит для чувствительной и проблемной кожи.

Использование:

Нанесите маску на лицо после очищения и тонизирования. Снимите маску через 20–30 минут и аккуратно вотрите остатки эссенции в кожу.